硅超大规模集成电路工艺技术理论、实践与模型PDF电子书下载

（美）普卢默（Plummer J.D.）

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22 点

出版社

北京：电子工业出版社

出版时间

2003

ISBN

7505386387

标注页数

818 页

PDF页数

837 页

标签

工艺技术集成电路超大电路模型

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书籍介绍

本书是美国斯坦福大学电气工程系“硅超大规模集成电路制造工艺”课程所使用的教材，该课程是为电子工程系微电子学专业的四年级本科生及一年级研究生开的一门专业课。本书最大的特点是，不仅详细介绍了与硅超大规模集成电路芯片生产制造相关的实际工艺技术，而且还着重讲解了这些工艺技术背后的科学原理。特别是对于每一步单项工艺技术，书中通过工艺模型的引入和工艺模拟软件的使用，非常形象直观地给出了实际工艺过程的物理图像。同时还对每一步单项工艺技术所要用到的测量方法做了详细的介绍，对于工艺技术与工艺模型的未来发展趋势，也做了必要的分析讨论。另外本书每一章后面都附有相关内容的参考文献，同时还附有大量的习题。

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图书目录

第1章引言及历史展望 1

第2章现代CMOS工艺技术 49

第3章晶体生长、晶圆片制造及硅晶圆片的基本特性 93

第4章半导体生产——洁净室、晶圆片清洗与吸杂 151

第5章光刻 201

第6章热氧化及硅/二氧化硅界面 287

第7章杂质扩散 371

第8章离子注入 451

第9章薄膜淀积 509

第10章刻蚀 609