李云奇编著2012 年出版310 页ISBN：9787122127808
本书共十一章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。...
方应翠主编；沈杰，解志强副主编2014 年出版213 页ISBN：9787030398987
本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应...
张以忱等编著2009 年出版558 页ISBN：9787502450205
本书论述了薄膜技术的基础理论，介绍了各种真空镀膜技术原理、真空镀膜工艺及应用特点。全书共分10章，主要内容有：薄膜与表面技术基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、化学...
张以忱主编2014 年出版250 页ISBN：9787502466381
本书共分9章，系统地阐述了各种真空镀膜技术的基本概念和应用、真空镀膜机结构及蒸发源、磁控靶的设计计算、薄膜厚度的测量技术、薄膜与表面分析与检测技术；重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术及真...
