等离子体浸泡式离子注入与沉积技术

本书介绍了用于材料表面改性的等离子体浸泡式离子注入与沉积（PIIID）技术。主要内容包括PIIID技术发展概况、基础理论、PIIID设备关键部件设计、PIIID鞘层动力学计算机理论数值模拟与应用以及机械零件的PIIID复合、批量处理工艺与应用等。本书也给出了PIIID技术最新进展与研究成果。本书涉及多门学科和技术，专业知识面宽广，内容系统全面，实用性强，可作为材料科学与工程相关专业本科生和研究生以及从事表面技术研究、开发和生产的工程技术人员的参考书。